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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications,【代妈应聘机构公司】 Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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外媒報導，代妈应聘流程無法取得最先進的 EUV 機台 ，只能依賴 DUV，

浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，【代妈公司有哪些】仍有待觀察 。

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